製品紹介

Φ1100真空蒸着装置 RMC−1100

製品概要

ARコーテイング等の光学薄膜蒸着装置

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スペック例

排気システム 油回転ポンプ+メカニカルブースタポンプ+
拡散ポンプ+ポリコールドチラー
巻取システム 光学式モニタ+自動蒸着コンピュータ
排気時間 2×10−3Paまで15分以内
到達圧力 1×10−4Pa以下
電子銃 3Kw
基板加熱 最高320℃
ドーム回転 3〜15rpm

詳細

ガラス基板向け装置として基板加熱ヒータ、及びポリコールドチラーを搭載したモデルです。
蒸発源(電子銃、抵抗加熱)及び基板ドームサイズはご要望により各種対応しております。

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